去離子水設(shè)備
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去離子水設(shè)備的工藝大致可分為三種：   
去離子水設(shè)備工藝第一種：采用陽陰離子交換樹脂制取的去離子水，一般處理之后，出水電導率可降到10us/cm以下，再經(jīng)過混床就可以達到1us/cm以下了。這種方法做出來的水成本比較高，而且顆粒雜質(zhì)太多，達不到理想的要求，目前已較少采用了。   
去離子水設(shè)備工藝第二種：預處理（即砂碳過濾器+精密過濾器）+反滲透+混床工藝   
這種方法是目前采用最多的，因為反滲透投資成本也不算高，可以去除90%以上的水中離子，剩下的離子再通過混床交換除去，這樣可使出水電阻率做到15~18MΩ左右，這樣是目前最流行的方法。  
去離子水設(shè)備工藝第三種：前處理與第二種方法一樣使用反滲透，只是后面使用的混床采用EDI連續(xù)除鹽膜塊代替，這樣就不用酸堿再生樹脂，而是用電再生。這就徹底使整個過程無污染了，經(jīng)過處理后的水質(zhì)電阻率可達到15MΩ以上。這種方法的前期投資比較多，運行成本低。

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