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化妝品生產用水的要求
無機離子濃度 ?化妝品用水需去除水中的無機離子，達到純水要求，使含鹽量降至1mg/L以下，即電導率需降低至1~6μs/cm2。
微生物的污染 化妝品衛(wèi)生標準規(guī)定：一般化妝品細菌總數不得大于1000個／mL或1000個／g；眼部、口唇、口腔粘膜用化妝品及嬰兒和兒童用化妝品細菌總數不得大于500個／mL或500個／g，而糞大腸菌群、綠膿桿菌和金黃色葡萄球菌不得檢出
化妝品生產用水質量要求:
水的電阻率與總含鹽量的關系 水純度 電阻率（MΩ?cm，25℃） 外來電解質含量w（×10—6） 純水 約0.1 2~5 十分純水 約1.0 0.2~0.5 超純水 約10 0.01~0.02 理論純水 18.3 0.00
應用工藝：
原水→原水增壓泵→多介質過濾器→活性碳過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透→紫外線殺菌器→純水箱→用水點（推薦工藝電導率≤10μS/CM）
傳統(tǒng)工藝：
原水→原水增壓泵→石英砂過濾器→活性碳過濾器→復床系統(tǒng)→紫外線殺菌器→微孔過濾器→純水箱→用水點（傳統(tǒng)工藝電導率≤10μS/CM）
化妝品生產用水工藝流程：
? 操作簡單，管路簡潔緊湊，占地面積小，多重水質過濾處理。
主體材質均選用不銹鋼材料。 ?
? 配有紫外線殺菌裝置、活性炭過濾器、流量顯示儀和水質檢測裝置。
電滲析-復床式離子交換-混合床式離子交換-微濾純水系統(tǒng)。
應用場合
◆ 護膚品生產用純水
◆ 洗發(fā)水生產用純水
◆ 染發(fā)劑生產用純水
◆ 牙膏生產用純水
◆ 各種清洗液生產用水
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